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Principes et applications de la technique ALD (Atomic Layer Deposition)

Ce livre blanc explique tout ce qu'il faut savoir à propos du procédé chimique ALD (Atomic Layer Deposition).

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Introduction ou extrait du livre blanc

"Le procédé ALD (Atomic layer deposition) ou dépôt de couches atomiques est un procédé de dépôt chimique en phase vapeur à flux alternés qui a été inventé au milieu des années 1970.

Si pendant 20 ans ce procédé est resté relativement confidentiel, il a fortement émergé au début des années 2000 grâce à l’intérêt de l’industrie de la microélectronique.

Aujourd’hui, on retrouve aussi le procédé ALD dans d’autres domaines : le photovoltaïque, les batteries, les piles à combustible, la photoélectrochimie, la santé, les fibres ou textiles, l’environnement, l’optique, la photonique, les MEMS, la bijouterie, la décoration…

En effet, le procédé ALD permet de produire des couches ultra minces (quelques nm) de très bonne qualité, dans des conditions douces (basse température, pression de l’ordre du mbar ou du bar) avec une très bonne conformité."

Principes et applications de la technique ALD (Atomic Layer Deposition)